ワイドギャップ半導体 ガラス製造技術とワイドギャップ半導体のセラミックフォーラム

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ワイドギャップ半導体

ワイドギャップ半導体取引先企業一覧

SiCrystal社(ドイツ)

SiCrystal社(ドイツ)
社名 SiCrystal, Inc.
創業 1997年
本社所在地 ドイツ
会社紹介

欧州最大のSiC単結晶ウエハメーカー。ドイツが1994年にスタートさせたSiC単結晶成長技術開発プロジェクトを礎として、1997年に設立され、2001年よりSiCウエハの量産、供給を開始しております。2000年にはSiemensグループのFreitoronicsとの合併を経て、2009年よりローム(株)グループの1社となりました。
「品質の安定」を会社哲学とし、SiC原料から結晶成長~ウエハ加工~検査までのウエハ一貫生産体制を築き、ISO9001を1999年に取得しております。

Norstel AB社(スウェーデン)

Norstel AB社(スウェーデン)
社名 Norstel AB, Inc.
創業 2005年
本社所在地 フィンランド
会社紹介

欧州最大のエピサービス供給会社。1993年より開始された、スウェーデンLinkoping大学とABB社のSiC共同研究を礎として、フィンランドのSiウエハメーカー、Okmetic社傘下を経て、2005年に独立。量産用SiCエピ炉と研究開発用枚葉式エピ炉の他、数多くの評価装置を有し、大量生産に耐えうる体制を築き上げております。

Ascatron社(スウェーデン)

Ascatron社(スウェーデン)
社名 Ascatron, Inc.
創業 2011年
本社所在地 スウェーデン
会社紹介

エピタキシーから、デバイス設計~パッケージまでの工程を手がける、2011年設立のSiC専門ファブ。
スウェーデンの国営研究機関(ACREO)からのスピンアウトベンチャーであり、同研究機関にて、1993年からSiCの研究開発を行っておりました。
数多くの開発実績をもとにした独自ノウハウによる、3DSiCエピタキシャル構造や、デバイス設計、プロセス技術等の同社でしか提供のできないノウハウと技術を提供しております。

Ammono社(ポーランド)

Ammono社(ポーランド)
社名 Ammono, Inc.
創業 1999年
本社所在地 ポーランド
会社紹介

欧州No.1のGaN自立基板メーカー。同社の製造するGaNウエハは世界最高品質と評価されております。
1992年にポーランド、ワルシャワ大学にてスタートしたGaN単結晶研究開発プロジェクトを基にしており、1999年にGaN基板専門メーカーとして設立されました。
2012年6月現在、最大口径2インチ、c面のほかに、m面、a面、半極性面を製品ラインナップしております。

NovaSiC社(フランス)

NovaSiC社(フランス)
社名 NovaSiC
創業 1995年
本社所在地 フランス
会社紹介

SiC GaN などの先端材料の研磨加工における、欧州一のサービスプロバイダー。1995年に設立後、一貫して、フランス、欧州の先端材料研究プロジェクトにおいて研磨開発の担当を担ってきました。ウエハメーカーの研磨受託もおこなっており、加工実績、通算研磨枚数における世界有数の研磨加工メーカーである。

また、フランスの研究機関であるCREHEA-CNRSとの共同開発によりエピ技術も有しており、4Hのみではなく3Cエピの提供ができる数少ないメーカーになります。CMPの評価は、エピを成膜してみないとわからないケースが多く、研磨から評価を自社内で完結できるという強みがあります。

HZDR Innovation社(ドイツ)

HZDR Innovation社(ドイツ)
社名 HZDR Innovation GmbH
創業 2011年
本社所在地 ドイツ
会社紹介

ドイツ有数のR&D機関である、Helmholtz-Zentrum のDresden 研究所からのスピンアウトベンチャー。同研究機関の保有する世界最高エネルギーイオン注入機を用いて、産業界に貢献する目的で設立。現在では欧米を中心に13カ国にわたる製造企業、研究機関へ注入サービスを提供しております。 同社の保有する注入設備は、2MV, 3MV, 6MVがあり、研究開発から量産用途まで幅広い用途で使われております。

mi2-factory社(ドイツ)

mi2-factory社(ドイツ)
社名 mi2-factory GmbH
創業 2016年
本社所在地 ドイツ
会社紹介

ドイツ、Jena大学からのスピンアウトベンチャー。2012年にスタートした、同大学での「エネルギーフィルターを用いたイオン注入制御の開発プロジェクト」に参加していた教授、研究者を中心に、2016年に設立したスタートアップベンチャー。欧州内のイオン注入サービス会社数社と提携し、SiCデバイス開発における新しい技術スタンダードとなるべく、開発を加速しております。

Seen Semiconductors社(ポーランド)

Seen Semiconductors社(ポーランド)
社名 Seen Semiconductors Ltd.
創業 2011年
本社所在地 ポーランド
会社紹介

ポーランド科学アカデミー高圧物理学研究所(Unipress)よりスピンアウト(2011年)した企業で、GaNに限らずInP, GaAs, AlGaN, AlN などのⅢ-Ⅴ属のエピタキシャル成長を得意としております。少量から複雑な構造のご注文にも対応できる柔軟性の高さを特徴としております。

Phystech社(ドイツ)

Phystech社(ドイツ)
社名 Phystech GmbH
創業 1990年
本社所在地 ドイツ
会社紹介

ドイツのKassel工科大学発のDLTS測定装置の専業メーカー。現在、販売されているDLTSシステムの中で唯一のデジタル方式の開発に成功し、世界で最も普及したDLTS測定システム、DL-8000を開発したメーカーである(販売元 BIO-RAD)。2016年にリリースしたFT-1230 は、競合他社製品に比べて、最も多彩な測定モードを備え、どのような材料にも、研究者のいかなる要望にも答えられる拡張性を持った唯一無二のシステムとなっている。

概要情報

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取り扱いメーカー

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