ガラス製造技術とワイドギャップ半導体のセラミックフォーラム

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分析サービス(ホール効果測定サービス)

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Hall効果測定とは

Hall効果測定は、半導体材料における基本特性である伝導型(p, n)、キャリア濃度、移動度を測定するものです。磁場中で、半導体材料に電流を流した場合、これらと直交する方向に電圧が発生します(Hall効果)。この電圧の極性と大きさから、上記の基本特性が求められます。

測定は、6~8mm角程度の半導体ウエハ片の四隅にオーミック電極を形成した試料を作製して行う Van der Pauw法が一般的です。(図1)

ホール効果測定サンプル事例
図1.Hall効果測定試料例

受託評価・解析サービス

セラミックフォーラム(株)では、Hall効果測定法による半導体
材料の特性評価に関する受託評価・解析サービスを開始しました。
既に好評を戴いておりますDLTS (Deep Level Transient Spectroscopy)
法による半導体材料/デバイス中の欠陥評価サービスと合わせて、皆様の研究・開発業務にご活用戴たいと存じます。

Hall効果測定事例

ホール効果測定事例1
図2.キャリア濃度の温度依存性測定例および
   その解析例(半絶縁性4H-SiC)

ホール効果測定事例2
図3.キャリア移動度と濃度の関係
   (半絶縁性4H-SiC)


当社サービスに関するこんなお悩み・ご相談お待ちしております!
  • SiCやGaN などのワイドギャップ半導体に関して質問がある
  • SiCやGaN ウエハに成膜するエピの仕様を決めたい
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