LayTec社製エピIn-situモニタリングシステム
概要
セラミックフォーラムは、LayTec AG社(ドイツ)の成膜装置用in-situモニタリング装置およびMapperシステムを取り扱っています。
リアルタイムモニタリングシステムは、MOCVD 装置やMBE 装置など各種成膜装置によるエピタキシャル成長プロセスにおいて、
成膜速度や膜厚、基板の反りやウェーハ表面温度等を極めて高精度に測定します。
ナノスケールの構造体にも対応しています。
GaNなど各種材料の成膜プロセスにおいては、ウェハ表面の実際温度が最も重要な成膜条件であるとされていますが、この装置では温度をリアルタイムで測定し、かつその精度は±1Kを達成しています。
上位機種では更に様々な測定・解析が可能となっています。
マルチウエハタイプのサセプターにも対応しており、ウェハ毎に選択的な測定を行うことができます。
その他にも、in-situ装置で得られた測定データと連動したウエハマッピングシステムも取り揃えております。
製品の特徴
- 基板表面の実温度（±1K）をリアルタイム測定、常時外部出力も可能
- 界面、表面の粗さ検知
- 成膜速度測定（精度±1%以下）
- 基板の反りから見る構造解析（EpiCurve®シリーズ）
- 複数軸方向での反り測定が可能 （非球面性の反りに対応 : ARシリーズ）
- オプションで青色レーザ選択可能 （パターン基板や両面研磨基板に最適）
- 反射率・温度・反りの同時測定
- 3波長モデルに加え、全波長での反射率測定(UV-VIS-IR)も取り揃えております。
- VCSEL構造成長中のDip波長位置やStop-band幅の自動解析
in-situモニタリングシステム ラインナップ
| シリーズ | 表面温度 （IRパイロ） |
成膜速度 | 基板反り | 複数ヘッド | 表面温度 (UVパイロ) |
| EpiTT | ✔︎ | ✔︎ | |||
| EpiCurve® TT | ✔︎ | ✔︎ | ✔︎ | ||
| VCSEL | ✔︎ | ✔︎ | ✔︎ | ✔︎ | |
| Pyro 400 | ✔︎ |
Mapperシステムの特徴
- 200mm x 200mmまでのマッピングに対応
- 全波長での反射率測定(UV-VIS-IR)による膜厚分布
- 各種分布値(PL測定、反り値、シート抵抗、透過率 等)
- VCSEL構造のDip波長位置やStop-band幅の解析
関連製品／サービス
製品メーカー案内
LayTec社（ドイツ）
1999年に設立されたIn-situ エピタキシャルセンサー分野のリーディングカンパニー。
2009年から3年連続でドイツで最も急成長しているテクノロジー企業50社の1つにランクイン。
2011 年にはORS（Optical Reference Systems）を子会社化し、同社の技術にさらなる価値を追加した。
現在、世界中に2500以上の計測システムを設置しており、その75％がアジア、10％が北米、15％がヨーロッパにある。