ガラス製造技術とワイドギャップ半導体のセラミックフォーラム

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SiC エピキタシー成膜サービス

SiC エピキタシー成膜サービス の特長

セラミックフォーラムでは、SiC 基板上へのSiCエピタキシー成膜サービスを提供しています。

Ascatron社とNorstel社は独自の技術と高い実績を持ち、n型・p型のいずれでも、低濃度から高濃度まで、R&D向け特殊仕様・量産向け仕様を問わず提供が可能です。Ascatron社とNorstel社のエピキタシーサービスから、最適なサービスを選定して提案します。

お客様のご要望にあわせて、特殊な仕様にも柔軟に対応します。
「他メーカーで断られた」という仕様を実現した事例も多数あります。


応用例

  • SiC ユニポーラデバイス用エピ(SiC-SBD, MOSFET, JFETs)

  • SiC バイポーラデバイス用エピ(SiC-PiN Diode)

  • 超高耐圧デバイス用エピ(SiC-IGBT) 
 

仕様

episervice2.pngAscatron社の仕様

関連製品/サービス

製品メーカー案内

スウェーデン Ascatron社

Ascatron社(スウェーデン)

エピタキシーサービスをはじめとして、デバイス設計・パッケージまでの工程を総合的に手がける、SiC専門ファブ。スウェーデンの国営研究機関(ACREO)にて1993年からSiCの研究開発を行っていた組織を母体として、2011年創立。数多くの開発実績をもとにした3DSiCエピタキシャル構造やデバイス設計・プロセス技術など、独自のノウハウと技術を提供している。

スウェーデン Norstel社

Norstel社(スウェーデン)

SiC 研究において高い実績と歴史を誇るスウェーデンのLinkoping(リンチョピン)大学からのスピンアウトベンチャー。欧州最大のエピサービス供給会社。1993年より開始された、Linkoping大学とABB社のSiC共同研究を礎として、フィンランドのSiウエハメーカーOkmetic社傘下を経て、2005年に独立。
量産用SiCエピ炉と研究開発用枚葉式エピ炉の他、数多くの評価装置を有し、大量生産に対応した体制を築き上げている。2019年にST-Micro社の傘下となっている。

当社サービスに関するこんなお悩み・ご相談お待ちしております!
  • SiCやGaN などのワイドギャップ半導体に関して質問がある
  • SiCやGaN ウエハに成膜するエピの仕様を決めたい
  • DLTSの測定に関して詳細を知りたい
  • 結晶評価を行いたい
  • ガラスの分析に関して知りたいことがある
  • ガラス溶解炉の生産性向上のための施策を知りたい
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