SiC エピキタシー成膜サービス
SiC エピキタシー成膜サービス の特長
セラミックフォーラムでは、SiC 基板上へのSiCエピタキシー成膜サービスを提供しています。
Ascatron社とNorstel社は独自の技術と高い実績を持ち、n型・p型のいずれでも、低濃度から高濃度まで、R&D向け特殊仕様・量産向け仕様を問わず提供が可能です。Ascatron社とNorstel社のエピキタシーサービスから、最適なサービスを選定して提案します。
お客様のご要望にあわせて、特殊な仕様にも柔軟に対応します。
「他メーカーで断られた」という仕様を実現した事例も多数あります。
応用例
- SiC ユニポーラデバイス用エピ（SiC-SBD, MOSFET, JFETs）
- SiC バイポーラデバイス用エピ（SiC-PiN Diode）
- 超高耐圧デバイス用エピ（SiC-IGBT)
仕様
Ascatron社の仕様関連製品/サービス
製品メーカー案内
Ascatron社（スウェーデン）
エピタキシーサービスをはじめとして、デバイス設計・パッケージまでの工程を総合的に手がける、SiC専門ファブ。スウェーデンの国営研究機関（ACREO）にて1993年からSiCの研究開発を行っていた組織を母体として、2011年創立。数多くの開発実績をもとにした3DSiCエピタキシャル構造やデバイス設計・プロセス技術など、独自のノウハウと技術を提供している。
Norstel社（スウェーデン）
SiC 研究において高い実績と歴史を誇るスウェーデンのLinkoping（リンチョピン）大学からのスピンアウトベンチャー。欧州最大のエピサービス供給会社。1993年より開始された、Linkoping大学とABB社のSiC共同研究を礎として、フィンランドのSiウエハメーカーOkmetic社傘下を経て、2005年に独立。
量産用SiCエピ炉と研究開発用枚葉式エピ炉の他、数多くの評価装置を有し、大量生産に対応した体制を築き上げている。2019年にST-Micro社の傘下となっている。